首页 > 标签 > 辅助 > 相关文章
  • 离子源辅助沉积

    离子源辅助沉积

    离子源辅助沉积是一种在微流控系统中对固体表面进行自下而上的沉积方法。这种方法可以用于制备各种复杂的微结构，如微流控芯片中的微管道和微孔等。离子源辅助沉积可以提高沉积过程的可控性和重复性，从而为微流控领...

    2024-03-24 15:46:24284
    聚焦离子束
  • 离子束辅助镀的优缺点

    离子束辅助镀的优缺点

    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子束辅助镀（IonBeamAssistedDeposition，IBAD）是一种用于制造高质量金属薄膜的先进技术。离子束辅助...

    2024-03-22 12:52:19225
    聚焦离子束
‹‹ ‹ 1 2 ››